MPCVD-10C
工作自动化MPCVD是 Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition的简写，中文名称叫微波等离子体化学气相沉积，MPCVD设备作为优异的钻石培育设备，其工作原理为通过微波源产生微波，在微波场的作用下，反应气体被激发为等离子体状态。等离子体是部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。等离子体呈球状形成于金刚石衬底上，利用等离子体的高温让衬底可以加热到一定的温度。
使用MPCVD设备，含碳气体被泵入真空室，可使钻石以微米级每小时的速率沉积，生长为钻石结晶。
工作自动化
- 腔体类型： 蝶形腔
- 沉积面积： 80~100mm
- 微波电源： 德国牧歌MUEGGE
- MFC气路： 5路
- 气体流量质量计： 进口
- 进出料口： 升降进出料口
- 观察窗： 8个
- 测温窗： 1个
- 测温范围： 300~1400℃
- 生长台升降功能： 有，可选
- 生长台旋转功能： 有
- 旋转模式： 连续旋转、间歇旋转
- 旋转角度： 360°
- 旋转速度： 0~20转/分，可调
- 尺寸： 约1600*800*2000mm
- 产品参数
- 腔体类型： 蝶形腔
- 沉积面积： 80~100mm
- 微波电源： 德国牧歌MUEGGE
- MFC气路： 5路
- 气体流量质量计： 进口
- 进出料口： 升降进出料口
- 观察窗： 8个
- 测温窗： 1个
- 测温范围： 300~1400℃
- 生长台升降功能： 有，可选
- 生长台旋转功能： 有
- 旋转模式： 连续旋转、间歇旋转
- 旋转角度： 360°
- 旋转速度： 0~20转/分，可调
- 尺寸： 约1600*800*2000mm
产品特点：
- 生长台可旋转，连续旋转、间歇旋转；
- 生长台可升降；
漏率低；
不烧玻璃；
同一腔体支持6~15KW微波源转换；
生长台直径80~100mm；
核心零部件全进口；
PLC控制系统；
- 整机、零部件均可售。
应用领域：
金刚石材料
复合热沉积
精密刀具刀头
光学窗口
功率电子器件
- 微波功率： 2.45GHz,6KW微波源
- 反应腔： 不锈钢圆柱反应腔
- 标准气路： 5路MFC气路
- 生长台类型： 水冷式生长台
- 标准衬底托： 60mm沉积面积
- 系统真空密封性： 真空度(氦检)<5x10-10Pa-m3/sec(使用氦质谱检漏仪测试)
- 真空泵类型： 旋转真空油泵18m3/h(50Hz)
- 工作压力范围： 工作压力: 10-220 Torr
- 操作系统： PLC+触摸屏控制系统
- 观测窗： ICF70 3个1CF34 4个
- 系统尺寸(参考)：反应腔体: 205 mm(内径)x 310 mm(高)
- 系统重量： 250kg
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